SKIN1004 Madagascar Centella Ampoule Foam
Ein reichhaltiger Reinigungsschaum, mit dem idealen pH-Wert von 5, welcher effektiv Make-up und Unreinheiten entfernt, ohne die Haut zu strapazieren.
Dieser leicht bräunliche Ampullen-Reinigungsschaum besitzt einen optimalen pH-Wert von 5 und ist daher sehr schonend, da er die Hautbarriere nicht reizt. Der durch Reibung mit Wasser entstehende, feine Schaum enthält Natriumpulver, welches Feinstaub effektiv reinigt. Die Haut fühlt sich nach der Anwendung weich, anstatt gespannt oder trocken, an. Zudem enthält der SKIN1004 Madagascar Centella Amoule Foam 33 % Centella Asiatica-Extrakt und schont die Hautbarriere intensiv während der Reinigung.
Wie alle Produkte der SKIN1004 Centella Linie enthält diese Ampulle Centella Asiatica, die auf der Insel Madagascar wächst, da sie dort die idealen Wachstumsbedingungen findet, um ihre pflegenden und schützenden Eigenschaften optimal zu entfalten.
Empfohlen für:
- alle Hauttypen
Kerninhaltsstoffe
Centella Asiatica-Extrakt: Beruhigt und füllt den Feuchtigkeitsgehalt der Haut wieder auf
Trage eine angemessene Menge Reinigungscreme auf die nassen Handflächen auf und schäume sie durch Reiben der Handflächen auf. Sanft im Gesicht einmassieren und anschließend mit lauwarmem Wasser abspülen.
Aqua (Water), Sodium Cocoyl Isethionate, Glycerin, Sodium Methyl Cocoyl Taurate, Coco-Betaine, Centella Asiatica Extract, Coptis Chinensis Root Extract, Sodium Hyaluronate, Eclipta Prostrata Extract, Coccinia Indica Fruit Extract, Theobroma Cacao (Cocoa) Extract, Potassium Cocoyl Glycinate, 1,2-Hexanediol, Sodium Chloride, Potassium Cocoate, Potassium Benzoate, Polyquaternium-67, Citric Acid, Dextrin, Sodium Bicarbonate, Disodium EDTA, Sodium Acetate, Butylene Glycol
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